刻蝕機(jī)作為芯片制造三大主設(shè)備之一，是我國(guó)打破壟斷、尋求“芯”突破的拳頭產(chǎn)品?？涛g技術(shù)為硅片上做“微雕”，因此對(duì)設(shè)備的精密性、穩(wěn)定性要求極高，其關(guān)鍵難點(diǎn)在于保證晶圓表面的刻蝕一致性，而這很大程度上取決于刻蝕氣體的饋入方式。噴淋盤則是刻蝕機(jī)饋入刻蝕氣體的主要部件。

一個(gè)直徑近半米的噴淋盤上，均勻地分布著幾千個(gè)細(xì)小的圓孔，反應(yīng)氣體正是通過這些小孔進(jìn)入反應(yīng)腔體，在射頻作用下形成均勻分布的等離子體。為了保證化學(xué)氣體均勻地進(jìn)入反應(yīng)腔體，噴淋盤表面每一個(gè)圓孔的直徑、內(nèi)壁都要經(jīng)得起檢驗(yàn)。

噴淋盤

如此超高精度及數(shù)量眾多的孔徑需要快速完成檢測(cè)，沒有絕對(duì)硬核的技術(shù)方案，是萬(wàn)萬(wàn)不能的。?？怂箍狄揽孔陨磉^硬技術(shù)，開發(fā)出極具針對(duì)性的產(chǎn)品輕松應(yīng)對(duì)該難題，確?？蛻舢a(chǎn)品高質(zhì)量交付，以下為詳細(xì)檢測(cè)方案：

檢測(cè)要求

噴淋盤幾千個(gè)小孔（不同客戶產(chǎn)品設(shè)計(jì)不同）直徑、位置度、圓度等特征尺寸測(cè)量；

需要批量檢測(cè)，要求測(cè)量重復(fù)性高，測(cè)量節(jié)拍快。

檢測(cè)難點(diǎn)

噴淋盤表面小孔數(shù)量多達(dá)幾千，軟件需要處理幾千個(gè)數(shù)據(jù)，對(duì)軟件運(yùn)算能力有較高要求；

程序編寫難度大，步驟繁瑣。

解決方案

配置OPTIV Advance 8.6.2+ METUS，滿足平面幾何尺寸快速測(cè)量；

自動(dòng)變焦鏡頭提供足夠的光學(xué)放大倍率，小孔細(xì)節(jié)輕松展示；

同軸光、輪廓光、6環(huán)8區(qū)表面環(huán)形光，多種光源配合，同時(shí)滿足圓柱通孔，錐形孔上下端面圓檢測(cè)要求；

METUS軟件強(qiáng)大的運(yùn)算能力保證編程、測(cè)量、數(shù)據(jù)輸出過程不卡頓；

速度模式、報(bào)表輸出與測(cè)量并行功能，助力測(cè)量效率提升50%；

導(dǎo)入DXF圖紙編程，批量導(dǎo)入測(cè)量要素，編程簡(jiǎn)單高效；

報(bào)表摘要功能，結(jié)合二次編輯圖片功能，快速定位、復(fù)測(cè)；

報(bào)告多樣化，可輸出Excel、CSV、TXT或按用戶需求定制。

導(dǎo)入DXF圖檔，在模型窗口快速編程

CAD圖形：直觀顯示小孔測(cè)量要素

OPTIV ADVANCE 8.6.2

?？怂箍祽{借創(chuàng)新的軟硬件技術(shù)，保證噴淋盤等大尺寸、大數(shù)據(jù)量的工件批量測(cè)量從理論走向?qū)嶋H，方案已成功應(yīng)用到多家噴淋盤廠商，后續(xù)?？怂箍祵⒊掷m(xù)在半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)力，為客戶提供優(yōu)質(zhì)可靠的解決方案。